World Class Filtration Solutions
En Porvair Filtration Group fabricamos una amplia gama de medios porosos de alta pureza para productores fabricantes de equipos originales (OEM) y productos de filtración de confianza y de alta eficiencia. Esto asegura una limpieza total en aplicaciones vitales microelectrónicas y de semiconductor de distribución y manejo de gas.
Se incluyen:
Personalizamos soluciones ingenieras para las aplicaciones más exigentes, haciendo uso de la membrana de PTFE porosa (Teflon™), la fibra de metal sinterizado Sinterflo® F y los medios de polvo de metal sinterizado Sinterflo® P.
Nuestra amplia gama de medios porosos incluyen una variedad de medidas de poro y propiedades de material. Ofrecemos estos filtros de gran eficiencia de la siguiente forma:
Nuestros medios de filtro GasPro™ proporcionan una gran fuerza mecánica, una resistencia mejorada ante la corrosión y son capaces de proporcionar servicio bajo temperaturas elevadas en entornos complejos.
Los medios de filtro y la estructura de soporte están diseñados para hacer frente a los diferenciales de presión más elevados. La fuerza mecánica de las carcasas de filtro de acero inoxidable 316L ofrecen un servicio de duración de 100 000 ciclos bajo alta presión (258 bares (3750psig) a 20°C (68°F)).
Las construcciones de níquel o de acero inoxidable 316L pueden proporcionar servicio bajo temperaturas elevadas de hasta 500°C (930°F). Las construcciones de Hastelloy® C22 están preparadas para prestar servicio bajo temperaturas de hasta 700°C (1290°F) en aplicaciones de reducción de gas o de gas inerte. Con los medios de filtro de FTFE, los filtros pueden prestar servicio bajo temperaturas de hasta 120°C (250°F).
Nuestro hardware de filtro GasPro™ incorpora superficies electropulidas superiores a un índice de 10 de rugosidad media con el fin de prevenir la corrosión y la formación de partículas para ofrecer un servicio de confianza durante años. La robustez de la construcción y la excelente resistencia ante la corrosión hacen posible el servicio en una amplia gama de gases de grabado y de proceso de deposición de química de vapor (CVD).
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