Cuándo son necesarios los filtros, los difusores y los ventiladores en la industria Microelectrónica?

Filtros de gas

Sin la existencia de filtros eficientes para partículas de tamaño submicrónico sería muy difícil imaginar estas tecnologías microelectrónicas, si no imposible. Los filtros de gas específicos protegen los procesos vitales que requieren un entorno libre de partículas para fabricar dispositivos que cuentan con características nanoescaladas.

La filtración es un proceso clave a la hora de reducir defectos que limitan la producción en la mayoría de procesos de producción de toda la industria microelectrónica. Las partículas de tamaño submicrónico en gases de especialidad e inertes utilizados en procesos de implante "seco", difusión, oxidación y deposición de metal pueden quedar depositadas en el sustrato y causar defectos graves.  En el grabado de plasma, los gases de ultra alta pureza (UHP), corrosivos y reactivos graban o eliminan la silicona, los polímeros o algunos metales, y requieren filtración. Es necesario seleccionar los filtros de membrana y los materiales de hardware para prevenir la corrosión y la contaminación del proceso consiguiente que limitará la producción.

Difusores de gas

Las obleas se montan y se almacenan en una atmósfera inerte creada en cámaras de bloqueo de carga. Los filtros del difusor eliminan partículas del nitrógeno de ultra alta pureza entrante y proporcionan un flujo laminar suave para evitar molestar a las partículas que hayan podido entrar y afincarse a pesar del bloqueo.

Difusores de ventilación

La ventilación de los espacios de bloqueo de carga puede mejorar sustancialmente con difusores de orificios de ventilación.  Los tiempos del ciclo de ventilación pueden reducirse para mejorar el rendimiento y, a la vez, mantener un entorno prácticamente libre de partículas.

Restrictores del flujo de metal poroso

Los restrictores del flujo de metal poroso son vitales en los procesos microelectrónicos que requieren diferentes gases de especialidad.  Cuando las válvulas o los reguladores fallan durante el proceso de distribución del gas, los trabajadores se encuentran protegidos de peligrosos gases de proceso de alta presión.  Los controladores de flujo másico (MFC) utilizan presión de vapor estable para ofrecer un control preciso en los pasos del proceso de secado de semiconductor, tan vital hoy en día.  Algunos procesos microelectrónicos de secado, como por ejemplo el de deposición de capas atómicas (ALD) o el de deposición física a partir de la fase de vapor (PVD), requieren caudales muy bajos y preciosos. En los casos en los que se necesita un reajuste mínimo del flujo, reemplazar un controlador de flujo másico o una válvula de aguja micrométrica por un restrictor de flujo de metal poroso es una solución eficiente, estable y económica. Los restrictores de flujo de metal poroso incrementan la seguridad, estabilizan la línea de presión y ofrecen un control de flujo preciso con un caudal muy bajo.

 

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